負責人：張奇龍老師
負責人分機：4459
地點：電漿薄膜中心2館1F
實驗室分機：4395

實驗室研究宗旨

1. 本實驗室以表面工程、真空電漿、真空鍍膜技術與系統整合為技術發展核心，產學合作與技術移轉為主要服務目的。
2. 本實驗室提供相關企業技術諮詢或執行企業委託研究案。
3. 本實驗室提供相關企業技術提升與系統整合委託計畫案。
4. 本實驗室提供學校及相關企業之人才教育訓練。
5. 本實驗室提供業界代工鍍膜服務需求。

目前實驗室設備

圖一、工業複合式鍍膜系統系統

圖二、電漿示意圖

實驗室遠景

本實驗室以發展各類功能性薄膜為主，並整合真空電漿製程設備與分析儀器，可提供完整理論教學與實務學習之環境，提升新穎之學術研究、產學發展。本實驗室已開發各種刀、模具和機械零組件上被覆處理之多種超硬陶瓷薄膜製程技術、最新高階工業化真空鍍膜製程設備與關鍵真空鍍膜儀器組件，可應用在不同的領域，達到耐磨損、耐高溫氧化、抗腐蝕、抗沾黏、抗EMI、抗菌及色彩裝飾等多重目的。適用行業包括精密機械加工製造業、塑膠射出加工業、光電及半導體、生醫產業與食品製造工業等。