本中心提供薄膜與電漿技術之研發交流，核心技術包含ICP-CVD、PE-CVD、濺鍍、蒸鍍、液態電漿、大氣電漿、電漿聚合…等，技術服務包含：

1.功能性薄膜研發

2.鍍膜研發：

*透明導電薄膜：ITO,AZO,IZO。

*P or N型之氧化物薄膜：NiO,Cu₂O,WO₃,TiO₂,TiON,TaON,Ta₂O₅,MgO。

*高硬度耐磨耗氮化物、碳氮化物奈米結構薄膜：AlCrN, TiAlN, CrCN, ZrCN, TiCrAlSiN, CrSiN, CrN, CrBN, CrTiBN, CrCN/ZrCN,CrBN/TiBN.

*高硬度透明薄膜：AlN.

*生醫薄膜：抗菌薄膜、促進細胞貼合有機/無機薄膜。

*太陽能光電薄膜：a:Si:H, mc:Si:H, CIGS, CZTS.

*半導體閘極氧化層薄膜：H_fO₂, ZrO₂, Al₂O₃, Y₂O₃, Dy₂O₃, La₂O₃.

*抗沾黏硬質薄膜：AlCrN, CrSiCN.

3.電漿即時監控之鍍膜製程技術：

    *鋁、鋅、鉛合金鑄造模具之保護性薄膜：SiN, AlCrN, BN.