儀器負責人：黃裕清 老師
分機：4477
地點：電漿薄膜中心2館1F產學製程實驗室

儀器原理：

所謂氣體氣相沉積(Physical Vapor Deposition)，是以物理現象的方式來進行薄膜沉積的一種技術。而此機台即是應用此技術在真空下，對被蒸鍍物體加熱，利用被蒸鍍物(如鋁、鉻)在高溫下所具備的飽和蒸氣壓來進行薄膜的沉積。

儀器圖片：