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離子輔助蒸鍍機 (Ion-Beam Assisted Deposition,IBAD)

最後更新日期 : 2022-08-01

 

儀器負責人:黃宗鈺 老師
分機:4672
地點:電漿薄膜中心2館1F產學製程實驗室

 

儀器原理:

       利用電子槍將坩堝裡的鍍膜材料(如金屬Al、Cu)加熱並使其蒸發,而達成沉積於薄膜的目的,此種方法的特點是在真空條件下透過加熱將熱穩定性化合物待蒸發而沉積在基板上,此一方式稱為熱蒸鍍法(thermal evaporation)。

       當電子槍式蒸鍍鍍方式變成光學鍍膜的主流後,利用離子助蒸鍍可有兩種好處,一是添加的離子源是一個獨立系統,安裝簡單,對原系統的影響低。第二離子束的範圍大,分布均勻擁有良好的動能,可以輕易的將膜層壓緊,得到附著力良好的膜層。

離子輔助蒸鍍系統-1

圖示為熱蒸鍍腔體內部圖(1)為蒸鍍載台,(2)為膜厚偵測器,(3)為離子源發射器,(4)為電子束蒸鍍區。

 

儀器圖片:

離子輔助蒸鍍系統-2

 

儀器功能:

  1. 是利用電子束使蒸鍍材料蒸發,讓材料蒸鍍到基材表面。
  2. 利用離子源可使膜層壓緊,得到附著力良好的膜層。
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