儀器負責人：曾傳銘 老師、李志偉 主任
分機：4402、4437
地點：電漿薄膜中心2館2F

儀器原理：

型號:JEOL JSM-IT700HR

       電子槍在高電壓驅動下發射出電子束，經過聚焦鏡使發散的電子束聚集成一微小的電子束。掃描線圈偏折電子束使其能在試片的表面作二維的掃描工作，另一功能是觀測試片時控制倍率的放大及縮小。接著電子束經過物鏡藉由調整項圈所造成的磁場來控制電子束做最後的對焦動作完成對焦後轟擊試件表面，會產生二次電子、背向散射電子、Auger 電子…等等。
       SEM主要觀測的是二次電子及背向散射電子，此二種電子產生的原因如下:當入射的電子束轟擊導電性試件表面時，與試件表面的電子和原子核產生一系列的彈性碰撞與非彈性碰撞。當入射電子撞擊試件表面產生非彈性碰撞時,此時表面電子接受到外加的動能能量足夠使其脫離能階的束縛,因此脫離試件的表面,即所謂的二次電子。當入射的電子束轟擊原子序較大的導電性試件表面時，因為試件元素的原子核尺寸大於入射的電子，因此產生彈性碰撞。此時反射電子的動能會略小於入射時所具有的能量，而彈離試件的表面，此為背像散射電子的產生。

儀器圖片：