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設備儀器

本中心佔地420坪,共設立十間實驗室(先進物理鍍膜實驗室(Ⅰ)、先進化學鍍膜實驗室、先進物理鍍膜實驗室(Ⅱ)、薄膜與機械性質實驗室、先進電漿實驗室、光電檢測實驗室、產學製程實驗室、產學檢測實驗室、應用生醫薄膜實驗室、電漿表面工程實驗室、耐蝕材料及防蝕技術實驗室、功能性大氣電漿實驗室 ,另有一間辦公室及一間大型會議室。

先進化學鍍膜實驗室

(Advanced Chemical Vapor Deposition Lab.)

高密度電漿輔助化學氣相沉積系統

(Inductively Coupled Plasma-Chemical Vapor Deposition, ICP-CVD)

電漿輔助化學氣相沉積系統

(Plasma Enhanced -Chemical Vapor Deposition,    PE-CVD)

 

先進物理鍍膜實驗室(Ⅰ)

(Advanced Physical Vapor Deposition Lab.Ⅰ)

連續式-物理氣相沉積系統

(In- Line Physical Vapor Deposition)

批次-物理氣相沉積系統

(Batch Type Physical Vapor Deposition)-

為多方位三維沈積系統

 

先進物理鍍膜實驗室(Ⅱ)

(Advanced Physical Vapor Deposition Lab.Ⅱ)

高功率脈衝磁控濺鍍系統 (High Power Impulse Magnetron Sputtering, HIPIMS)

 

薄膜與機械性質實驗室

(Thin Films & Mechanical Properties Testing Lab.)

薄膜刮痕儀

(Scratch Tester)

磨耗試驗機

(Tribometer)

薄膜衝擊試驗機(Thin Film Impact Tester)

 

先進電漿實驗室

(Advanced Plasma Lab.)

電漿聚合系統(Plasma Polymerization System)

 

光電檢測實驗室

(Optoeletronic Measurement Lab.)

電化學量測儀

 (Photoelectrochemical Measuring System)

紫外光/可見光分光光譜儀

(UV-Visible Spectrophotometer)

大氣電漿處理系統

(Atmospheric Plasma Treatment System)

 

產學製程實驗室

(Industry Process Lab.)

離子輔助蒸鍍機

(Ion-Beam Assisted Deposition,IBAD)

反應式離子蝕刻機

(Reactive Ion Etcher, RIE)

蒸鍍系統

(Deposition System)

有機/無機複合鍍膜系統

(Organic-inorganic hybrid coating system)

 

產學檢測實驗室

(Industry-Testing Equipment Lab.)

3D列印(3D print)

靜電紡絲(Electro-spinning)

 

熱燈絲電漿輔助化學氣相沉積

(Hot filament plasma enhanced chemical vapor deposition, HF-PECVD)

 

液態電漿實驗室

(Solution Plasma Lab.)

液態電漿系統 (Solution Plasma System)

 

應用生醫薄膜實驗室

(Applied Biological Thin Films Lab.)

無菌操作台

(Laminar Flow)

 

 

倒立式顯微鏡

(Microscope)

 

 

 

電漿表面工程實驗室

(Plasma Surface Engineering Lab.)

複合式鍍膜系統(Hybrid Coating System)

 

功能性大氣電漿實驗室

(Functional Atmospheric Plasma Lab.)

生醫電漿系統 (Bio-Plasma System)

機械手臂

 

登入

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